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產(chǎn)品中心光譜系統(tǒng)顯微缺陷膜厚光波場三維顯微鏡 MINUK
產(chǎn)品簡介
MINUK是一種可以評估納米量級的透明異物和缺陷的設(shè)備，可以單次獲取高度方向的信息，并且可以無損、非接觸、非侵入性地進(jìn)行測量。此外，還可以高速掃描任何表面并確定測量位置，而無需對焦。
產(chǎn)品分類
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可以透明地評估納米量級的污染物和缺陷。
單次拍攝瞬時深度信息
無需對焦即可實現(xiàn)高速測量
非破壞性、非接觸式和非侵入式測量
高速掃描任何表面，便于確定測量位置
| 分辨率 x，y | 691 nm（單次），488 nm（成分） | |||
| 視場 x，y | 700×700微米 | |||
| 分辨率 z | 10 nm（延遲） | |||
| 數(shù)字重對焦范圍 z | ±700微米 | |||
| 樣本量 | 100×80×t20 mm | |||
| （連接多功能樣品架時） | ||||
| 樣品臺 | 用于微調(diào)的自動 XY 載物臺 | |||
| X：±10 mm Y：±10 mm | ||||
| 用于粗調(diào)的載物臺 | ||||
| X：129 mm Y：85 mm | ||||
| 激光 | 波長 638 nm | |||
| 輸出 0.39 mW 以下，Class1 | ||||
| （對樣品的照射強度） | ||||
| 描述 | 主機：505（W）×630（D）×439（H） | |||
| （寬度×深度×高度）毫米 | ||||
| 重量 | 41 千克 | |||
| 功耗 | 主機：290 VA | |||
| *不包括PC和配件。 | ||||
納米階的形狀信息可以通過非接觸、非破壞性和非侵入性的方式獲得。通過單次拍攝獲取深度方向信息，可以可視化和量化透明薄膜表面的劃痕以及肉眼看不見的缺陷的橫截面形狀。
透明薄膜內(nèi)的填充物可以在一次拍攝中觀察到，這是肉眼看不見的。此外，通過在測量后改變深度方向的焦點，可以識別每個深度的填料。
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