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詳細介紹
| 品牌 | OTSUKA/日本大冢 |
|---|
● 1臺便可實再5個樣品的連續(xù)測量
實現了在沒有自動取樣器的情況下難以連續(xù)測量的多個樣品
可以改變每個樣品的條件進行測量
● 可以對應從稀薄到濃厚的樣品
● 標準測量時間1分的高度測量
自動調整從濃厚系到稀薄系樣品的最佳測量位置，實現約1分鐘的高速測量
● 配備簡單測量功能(點擊一鍵即可開始測量)
沒有任何復雜的操作，簡單易懂的軟件
● 因為每個樣品槽都是獨立的，沒有接觸污染的風險。
● 搭載溫度梯度功能
● 粒徑0.6nm～10μm
● 濃度范圍 0.00001～40％
● 溫度范圍0～90℃*
| 型號 | 多檢體納米粒徑測量系統(tǒng) |
| 測量原理 | 動態(tài)光散射法（光子相關法） |
| 光源 | 高功率半導體激光（660nm、70mW） *1 |
| 檢出器 | 高感度APD |
| 連續(xù)測量 | 最多5個樣品 |
| 測量范圍 | 0.6nm ～ 10μm |
| 濃度范圍 | 0.00001 ～ 40% *2 |
| 溫度范圍 | 0 ～ 90℃ （具備溫度梯度功能） *3 |
| 樣品容量 | 四面透光比色皿：1.2mL～、微量比色皿：20μL～ |
| 尺寸 | W240 X D480 X H375 mm |
| 電壓 | 220V 50/60Hz、250VA |
| 重量 | 約18 kg |
| 軟件 | 平均粒徑解析（累積法解析） |
| 粒徑分布解析 | |
| （Marquardt法/Contin法/NNLS/Unimodal法） | |
| 粒度分布重疊 | |
| 逆相關數 殘差Plot | |
| 粒徑監(jiān)測 | |
| 粒徑表示范圍 （0.1 ～ 106 nm） | |
| 分子量計算機能 | |
| 21 CFR Part11對應*4 | |
| 選配 | 微量樣品池（20μLから対応）、熒光濾光片 |
*1 本設備劃分在激光安全基準（JIS C 6802）的等級內。
*2 Latex120nm：0.00001 ～ 10％、牛黃膽酸：～40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續(xù)測量時， 15 ～ 40℃ （不對應溫度梯度）
*4 選配功能
水210.6nm 酒精 286.2nm 甲苯360.4nm 甲基-乙基甲酮 488.4nm 乙氰 4811.7nm
牛凝蛋白(BSA)粒徑對溫度的依賴性
* 支持可逆試驗
【微?！苛虬匪?.6nm的粒徑評價
* 較舊機型感度提升
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